真空卷绕镀膜设备的主要技术特征是:
其一,被镀基材为柔性基材,即具有可卷绕性;
其二,镀膜过程具有连续性,即在一个工作周期内镀膜是连续进行的;
其三,镀膜过程始终在高真空环境中进行。
由以上特征可知:其基本结构必须有卷绕传动,有卷材(基材)的放卷和收卷。在放卷和收卷的过程中基材被镀上薄膜。镀膜部分就是真空卷绕镀膜设备的工作部。它位于基材的收放卷之间。工作部的工作原理可以是前述的电阻蒸发、感应蒸发、电子束蒸发、磁控溅射或者其它真空镀膜方法中的任一种。
要维持工作周期内镀膜过程的连续性,就要求镀材(沉积材料)足够多。在蒸发卷绕镀中就要求有足够大的坩埚,或者有连续的送料机构;在磁控溅射中要求有足够大的靶材。要有一个真空的环境,以上装置需置于一个密封的真空容器中,并有一套真空机组,以维持工作周期内真空度的稳定性。
这样,一台典型的真空卷绕镀膜设备就初具雏形了。当然,在卷绕系统中为保证膜层的均匀性,要做到卷绕系统线速度的恒定;为保证基材的平整度和收卷不跑偏,要做到卷绕系统基材张力的恒定,并要有基材展平装置。在镀膜部分须有挡板和水冷装置,在连续送蒸镀材料的机构中,送料速度必须实现恒定并可调.
关键词：真空镀膜设备
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