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真空镀膜设备的化学成分分析

编辑:驰诚机械  来源:温州驰诚机械设备有限企业  更新时间:2017-9-26 9:02:22  点击次数:
真空镀膜设备的化学成分具体是如何的?下面的内容中小编就带您来进行一个详细的分析,帮助您可以更好的使用了解:
1、厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍,但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细说明。
2、化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在,具体因素也在下面给出。
3、晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题。
 
真空镀膜设备
 
关键词:真空镀膜设备
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