bat365旧网址(中国)有限公司

欢迎光临江苏驰诚科技发展有限企业网站!

关于驰诚 | 网站地图 | English

热门关键词:bat365旧网址 真空镀膜设备 bat365旧网址厂家

关于驰诚 / ABOUT US

真空镀膜设备中频磁控溅射常识概况

编辑:驰诚机械  来源:温州驰诚机械设备有限企业  更新时间:2017-10-15  点击次数:
真空镀膜设备磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电子交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。在近几十年的发展中,大家逐渐采用永久磁铁,很少用线圈磁铁。 
 
靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。
不管平衡非平衡,若磁铁静止,其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率,可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构,同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。    

用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。
但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难大规模采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就是用金属靶,加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化,与反应气体化合生成氮化物或氧化物。  

磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面,以及靶源表面。从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术,很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源(磁控,多弧,离子)所必需,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

一台磁控设备往往很昂贵,但大家容易将钱花在设备其它上如真空泵,MFC, 膜厚测量上而忽略靶源。再好的磁控溅射设备若无好靶源,就像画龙而没有点睛一样。
真空镀膜设备
关键词:真空镀膜设备
注:文章内容由温州驰诚机械设备有限企业整理发布 转载请注明http://www.wzcczk.com/
本文链接:http://www.wzcczk.com//html/news/2017-10-15/643.html
上一篇:真空卷绕镀膜机镀层之间的结合力
下一篇:真空镀膜设备如何选配真空泵部件

相关文章

bat365旧网址详细镀膜方法-2020-05-04
bat365旧网址操作视频-2020-04-27
bat365旧网址的工作原理-2020-04-15
bat365旧网址大概多少钱一台-2020-04-09
bat365旧网址的使用步骤-2024-10-22
真空镀膜掉膜的原因和怎么解决-2024-10-11
bat365旧网址市场发展现状及未来趋势先容-2024-10-04
真空镀膜技术-2024-09-20
bat365旧网址行业市场的竞争分析报告-2024-09-11
bat365旧网址之塑料bat365旧网址-2024-09-09
真空镀膜设备在各个行业的应用-2024-09-02
bat365旧网址常用的真空镀膜材料-2024-08-26
真空镀膜设备中的“蒸发镀膜”的先容-2024-08-19
bat365旧网址厂家的镀膜技术-2024-08-12
bat365旧网址厂家真空镀膜产品的品质监测-2024-08-05
版权所有:江苏驰诚科技发展有限企业 Copyright 2015 All Rights Reserved
24小时售后服务电话:400-882-5225  电 话:0513-81907983  


手机:13857753897  传真:0513-81907983  Email:001@ccvacuum.com  地 址: 江苏省南通市通州湾示范区大豫镇江新路16号

bat365旧网址|bat365旧网址

XML 地图 | Sitemap 地图